США готовят новый механизм давления на Нидерланды, который может фактически перекрыть для Китая доступ почти ко всем литографическим системам ASML для производства чипов.
Сейчас компания уже не может поставлять китайским заказчикам свои установки литографии EUV (Extreme Ultraviolet Lithography, литография в экстремальном ультрафиолете) и наиболее продвинутые версии DUV (Deep Ultraviolet Lithography, глубокая ультрафиолетовая литография), однако более старые DUV-системы все еще разрешены к экспорту.
Законопроект MATCH Act, который рассматривается в Конгрессе США, должен заставить союзников синхронизировать экспортные ограничения с американскими.
В случае принятия документа ASML может лишиться возможности не только продавать Китаю оставшиеся DUV-станки, но и обслуживать уже установленное там оборудование.
Для Китая это особенно чувствительно, поскольку DUV-литография остается важной частью местного производства полупроводников, а китайские компании научились сочетать такие установки с более сложными технологиями травления, чтобы выпускать более эффективные чипы, которые обычно требуют технологии уровня EUV.
При этом ASML сама зависит от американских компонентов, поэтому Вашингтон уже использовал угрозу ограничений на поставки в ее цепочку производства как рычаг давления на Нидерланды.
